无尘洁净室主要之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触之大气的洁净度日及温湿度,使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造,此空间我们称之为无尘洁净室。按照国际惯例,无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也是说所谓无尘并非**没有一点灰尘,而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微,但是对于光学构造而言,哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的影响,所以在光学构造产品的生产上,无尘是必然的要求。
洁净室设计对生产工艺的要求
(1) 洁净环境是为生产工艺服务的,洁净室设计必须满足生产工艺的环境要求,这是理所当然的。因此,在洁净室设计时生产工艺对环境参数的要求应该实事求是,其面积、层高,温度、湿度,洁净度等应该该高则高,该低则低,并非越高越好。在不影响生产工艺正常运行的前提下尽可能地降低参数要求,控制净化面积,缩小高净化级别洁净区的范围,严格控制100级和更别单向流洁净区的面积。
(2)在生产工艺平面区划时尽可能把相同级别的洁净房间布置在一起,把洁净度要求高的工序设置在上风侧,把产生粉灰、有毒、有害、易燃、易爆废气的工艺设备、容器尽可能放在洁净区外,若必须放在洁净区内时应尽量采取密闭措施以减少粉尘和废气的排放量。
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